높은 처리량 광학 계측

샘플의 광학 계측을 위한 방법으로서, 상기 방법은 샘플의 다양한 속도의 이동 동안 상이한 파장의 펄스 세트에 의해 샘플의 영역을 조명하는 단계; 조명의 결과로서 샘플로부터 반사된 광선을 수집하여 프레임 세트를 제공하는 단계 - 각 프레임 세트는 상이한 파장과 연관된 부분적으로 겹치는 프레임을 포함함 -; 및 샘플 영역의 요소의 하나 이상의 평가된 파라미터를 나타내는 광학 계측 결과를 제공하기 위해 프레임을 처리하는 단계를 포함하며; 상기 프로세싱은 조명 및 수집에 의해 획득된 스펙트럼 해상도보다 더 높은 스펙트럼 해상도를 나타내는...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: SHICHTMAN ALEX, MATUSOVSKY MISHA, YALOV SHIMON, TUROVETS IGOR, PAZ SHACHAR
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:샘플의 광학 계측을 위한 방법으로서, 상기 방법은 샘플의 다양한 속도의 이동 동안 상이한 파장의 펄스 세트에 의해 샘플의 영역을 조명하는 단계; 조명의 결과로서 샘플로부터 반사된 광선을 수집하여 프레임 세트를 제공하는 단계 - 각 프레임 세트는 상이한 파장과 연관된 부분적으로 겹치는 프레임을 포함함 -; 및 샘플 영역의 요소의 하나 이상의 평가된 파라미터를 나타내는 광학 계측 결과를 제공하기 위해 프레임을 처리하는 단계를 포함하며; 상기 프로세싱은 조명 및 수집에 의해 획득된 스펙트럼 해상도보다 더 높은 스펙트럼 해상도를 나타내는 다른 광학 계측 프로세스에 의해 획득된 기준 측정치와 상기 프레임 세트 사이의 매핑에 기반한다. A method for optical metrology of a sample, the method may include illuminating areas of the sample by sets of pulses of different wavelengths, during a movement of a variable speed of the sample; collecting light reflected from the sample, as a result of the illuminating, to provide sets of frames, each set of frames comprises partially overlapping frames associated with the different wavelengths; and processing the frames to provide optical metrology results indicative of one or more evaluated parameters of elements of the areas of the sample; wherein the processing is based on a mapping between the sets of frames and reference measurements obtained by an other optical metrology process that exhibits a higher spectral resolution than a spectral resolution obtained by the illuminating and the collecting.