PROCESS FOR THE PRODUCTION OF SILICON PARTICLES OF SELECTED GRANULOMETRIC DISTRIBUTION
본 발명은 규소 분말 입자의 크기가 3 내지 30 μm이고, 규소 분말 입자의 입도 분율 D10이 3 내지 9 μm이고, 규소 분말 입자가 표면에 부착된 D10보다 작은 크기를 갖는 규소 입자를 갖지 않거나 실질적으로 갖지 않는, 규소 분말에 관한 것이다. 본 발명에 따른 규소 분말은 생성된 규소 분말을 습식 분류함으로써 생산된다. The present invention relates to a silicon powder, where the size of the silicon powder particles are between 3 a...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 본 발명은 규소 분말 입자의 크기가 3 내지 30 μm이고, 규소 분말 입자의 입도 분율 D10이 3 내지 9 μm이고, 규소 분말 입자가 표면에 부착된 D10보다 작은 크기를 갖는 규소 입자를 갖지 않거나 실질적으로 갖지 않는, 규소 분말에 관한 것이다. 본 발명에 따른 규소 분말은 생성된 규소 분말을 습식 분류함으로써 생산된다.
The present invention relates to a silicon powder, where the size of the silicon powder particles are between 3 and 30 μm, a particle size fraction D10 of the silicon powder particles is between 3 and 9 μm, and where the silicon powder particles have no, or substantially no, silicon particles with a size smaller than D10 attached to the surface. The silicon powder according to the present invention is produced by wet classifying produced silicon powders. |
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