내식성 플라즈마 프로세싱 챔버 컴포넌트들

플라즈마 프로세싱 챔버에서 사용하기 위한 컴포넌트가 제공된다. 컴포넌트는 컴포넌트 바디를 포함한다. 컴포넌트의 플라즈마 대면 표면은 플라즈마 프로세싱 챔버 내의 플라즈마와 대면하도록 구성된다. 플라즈마 대면 표면은 1) 도펀트가 탄소, 붕소, 텅스텐, 몰리브덴 및 탄탈륨 중 적어도 어느 하나이고, 도펀트는 0.01 % 내지 50 % 의 몰퍼센트 범위의 농도를 가지는 도펀트로 도핑된 실리콘 층, 또는 2) 도펀트가 실리콘, 붕소, 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈륨 중 적어도 하나이고, 도펀트의 농도는 0.01 % 내지 50 % 의 몰퍼센트...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	GOSSELIN SIMON, RADOCEA ADRIAN, CANNIFF JUSTIN CHARLES, XU LIN, SINGH HARMEET, KOSHY ROBIN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
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