적층체, 이를 이용하는 디바이스, 및 이의 제조 방법

본 발명에서는, 유기 재료를 포함하는 층 (1); 층 (1)에 접하는, 실록산 화합물 및 금속 산화물을 포함하는 층 (2); 및 (2)에 접하는, 금속 산화물을 포함하는 층 (3)을 포함하는 적층체를 제공한다. To provide a laminate including: a layer (1) including an organic material; a layer (2) including a siloxane compound and metal oxide, where the layer (2) is in contact with the laye...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SHIMOYAMA KEISUKE, INOUE RYOTA, KAMI HIDETOSHI, TAKAHASHI RYOHTA
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRICITY ELECTROGRAPHY ELECTROPHOTOGRAPHY GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING HOLOGRAPHY MAGNETOGRAPHY METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PHOTOGRAPHY PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명에서는, 유기 재료를 포함하는 층 (1); 층 (1)에 접하는, 실록산 화합물 및 금속 산화물을 포함하는 층 (2); 및 (2)에 접하는, 금속 산화물을 포함하는 층 (3)을 포함하는 적층체를 제공한다. To provide a laminate including: a layer (1) including an organic material; a layer (2) including a siloxane compound and metal oxide, where the layer (2) is in contact with the layer (1); and a layer (3) including the metal oxide, where the layer (3) is in contact with the layer (2).