SHOWERHEAD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

The present invention is to provide a showerhead and a substrate processing device, which can prevent reaction gas from being adsorbed on the inner wall or internal parts of a chamber. According to one embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a chamber in which a process for a substrate is performed; a susceptor which is installed inside the chamber to support the substrate; and a showerhead which is installed on top of the susceptor. The showerhead includes: a plurality of inner injection holes formed in an inner region corresponding to an upper part of the substrate and spraying reaction gas downwards; and a plurality of outer injection holes formed in an outer region corresponding to the outer side of the inner region and spraying inert gas along the inner wall of the chamber. 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판처리장치는, 기판에 대한 공정이 이루어지는 챔버; 상기 챔버의 내부에 설치되어 상기 기판을 지지하는 서셉터; 그리고 상기 서셉터의 상부에 설치되는 샤워헤드를 포함하되, 상기 샤워헤드는, 상기 기판의 상부에 대응되는 내측영역에 형성되며, 하부를 향해 반응가스를 분사하는 복수의 내측분사홀들; 그리고 상기 내측영역의 외측에 대응되는 외측영역에 형성되며, 상기 챔버의 내벽을 따라 비활성가스를 분사하는 복수의 외측분사홀들을 가진다.