적응형 온도 프로파일링을 포함하는 기화기 장치

본 발명에 따른 장치는, 기화성 물질(102)를 기화시키도록 구성된 가열 요소(245); 제1 퍼핑의 지속시간 및 상기 제1 퍼핑과 해당 제1 퍼핑에 후속하는 제2 퍼핑 사이의 간격을 감지하는 센서(213); 및 적어도 제1 퍼핑의 지속 시간 및 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격에 기초하여 가열 요소의 온도를 조정하도록 구성된 컨트롤러(204)를 포함한다. 추가로, 본원에 개시된 방법은 각각의 연속적 퍼핑으로 일관된 총 미립자 물질(TPM)이 되도록 제1 퍼핑의 지속 시간 및/또는 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격이 미리 결정된...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GREGORICH NICHOLAS A, KALOGEROPOULOS XENOFON, NEWBOLD ANDREW D, WALTON JACK O, GARCIA DOTY IAN
Format: Patent
Sprache:kor
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