적응형 온도 프로파일링을 포함하는 기화기 장치

본 발명에 따른 장치는, 기화성 물질(102)를 기화시키도록 구성된 가열 요소(245); 제1 퍼핑의 지속시간 및 상기 제1 퍼핑과 해당 제1 퍼핑에 후속하는 제2 퍼핑 사이의 간격을 감지하는 센서(213); 및 적어도 제1 퍼핑의 지속 시간 및 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격에 기초하여 가열 요소의 온도를 조정하도록 구성된 컨트롤러(204)를 포함한다. 추가로, 본원에 개시된 방법은 각각의 연속적 퍼핑으로 일관된 총 미립자 물질(TPM)이 되도록 제1 퍼핑의 지속 시간 및/또는 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격이 미리 결정된...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GREGORICH NICHOLAS A, KALOGEROPOULOS XENOFON, NEWBOLD ANDREW D, WALTON JACK O, GARCIA DOTY IAN
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명에 따른 장치는, 기화성 물질(102)를 기화시키도록 구성된 가열 요소(245); 제1 퍼핑의 지속시간 및 상기 제1 퍼핑과 해당 제1 퍼핑에 후속하는 제2 퍼핑 사이의 간격을 감지하는 센서(213); 및 적어도 제1 퍼핑의 지속 시간 및 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격에 기초하여 가열 요소의 온도를 조정하도록 구성된 컨트롤러(204)를 포함한다. 추가로, 본원에 개시된 방법은 각각의 연속적 퍼핑으로 일관된 총 미립자 물질(TPM)이 되도록 제1 퍼핑의 지속 시간 및/또는 제1 퍼핑과 제2 퍼핑 사이의 간격이 미리 결정된 값으로부터 벗어나는 것에 응답하여 가열 요소의 온도를 조절하는 단계를 포함한다. Various embodiments of a system for generating an inhalable aerosol are described. The system includes a vaporizable material insert containing a vaporizable material. The vaporizer device including a heating system. The heating system including a heating element positioned adjacent a vaporizable material compartment. The vaporizable material compartment configured to receive the vaporizable material insert. The heating system including an airflow pathway extending along the vaporizable material compartment. The temperature of the heating element may be adjusted such that a consistent total particulate matter (TPM) is delivered with each successive puff. Related systems, methods, and articles of manufacture are also described.