Chemical Drop Detecting Apparatus of Wafer Manufacturing Process

In the process of performing a preset wafer processing process, as a device that detects droplets of a chemical solution falling from a dispenser unit that discharges and processes a chemical solution onto a wafer fixed on a processing stage, a chemical solution drop detection device for a wafer processing process according to the present invention comprises: a droplet detection unit provided at the processing stage to develop a sensing area that detects the droplets of the chemical solution falling from the dispenser unit and including a droplet detection sensor that generates sensing data related to droplet falling; and a data processing unit that collects the sensing data generated by the droplet detection unit and performs an analysis. Accordingly, the defect rate can be minimized. 본 발명에 따른 웨이퍼 가공 공정의 화학약액 드롭 검출장치는, 기 설정된 웨이퍼 가공 공정을 수행하는 과정에서, 가공스테이지에 고정된 웨이퍼 상에 화학약액을 토출하여 가공하는 디스펜서유닛에서 화학약액의 액적이 낙하하는 것을 검출하는 장치로서, 상기 가공스테이지에 구비되어 상기 디스펜서유닛으로부터 화학약액의 액적이 낙하하는 것을 감지하는 센싱영역을 전개하도록 구비되며, 액적 낙하와 관련된 센싱데이터를 생성하는 액적감지센서를 포함하는 액적감지유닛 및 상기 액적감지유닛에 의해 생성된 상기 센싱데이터를 수집하고, 분석을 수행하는 데이터 처리부를 포함한다.