중합체, 조성물, 중합체의 제조방법, 조성물, 막형성용 조성물, 레지스트 조성물, 감방사선성 조성물, 리소그래피용 하층막형성용 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 리소그래피용 하층막의 제조방법, 회로패턴 형성방법, 및 광학부재형성용 조성물

식(1A) 및 (1B)로 표시되는 방향족 하이드록시 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 모노머유래의 반복단위를 갖는 중합체로서, 상기 반복단위끼리가, 방향환끼리의 직접결합에 의해 연결되어 있는, 중합체. JPEGpct00171.jpg46153 (식(1A) 및 (1B) 중, R은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1~40의 알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 6~40의 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 2~40의 알케닐기, 탄소수 2~40의 알키닐기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1~40의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 니트로기, 복소환기, 카르복실기 또는 수산기이고, 적어도 하나의 R은 수산기를 포함하는 기이고, m은 각각 독립적으로 1~10의 정수이다.) A polymer having repeating units derived from at least one monomer selected from the group consisting of aromatic hydroxy compounds represented by the formulas (1A) and (1B),wherein the repeating units are linked to each other by direct bonding between aromatic rings:wherein each R is independently an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent, an aryl group having 6 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent, an alkenyl group having 2 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent, an alkynyl group having 2 to 40 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent, a halogen atom, a thiol group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a nitro group, a heterocyclic group, a carboxyl group, or a hydroxy group, at least one R is a group containing a hydroxy group, and each m is independently an integer of 1 to 10.