Display device and method of fabricating the same

The present invention provides a display device and a method of manufacturing a display device. The display device includes: a substrate; a first conductive layer arranged on the substrate and including a first pattern; a first insulating layer arranged on the first conductive layer; a semiconductor layer arranged on the first insulating layer and including an active pattern; a second insulating layer arranged on the semiconductor layer; and a second conductive layer arranged on the second insulating layer. The second conductive layer includes a first electrode in partial contact with the active pattern. The first electrode is in contact with the first pattern through a first contact hole. The first contact hole includes: a first hole passing through the first insulating layer and defined by sidewalls of the first insulating layer; and a second hole defined by sidewalls of the active pattern and sidewalls of the second insulating layer. The width of the second hole is greater than the width of the first hole. The quality of the display device can be enhanced. 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법이 제공된다. 표시 장치는 기판, 상기 기판 상에 배치되며, 제1 패턴을 포함하는 제1 도전층, 상기 제1 도전층 상에 배치된 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에 배치되며, 액티브 패턴을 포함하는 반도체층, 상기 반도체층 상에 배치된 제2 절연층, 및 상기 제2 절연층 상에 배치되는 제2 도전층을 포함하되, 상기 제2 도전층은 상기 액티브 패턴과 부분적으로 접촉하는 제1 전극을 포함하고, 상기 제1 전극은 제1 컨택홀을 통해 상기 제1 패턴과 접촉하며, 상기 제1 컨택홀은 상기 제1 절연층을 관통하며 상기 제1 절연층의 측벽에 의해 정의되는 제1 홀, 및 상기 액티브 패턴의 측벽과 상기 제2 절연층의 측벽에 의해 정의되는 제2 홀을 포함하고, 상기 제2 홀의 폭은 상기 제1 홀의 폭보다 크다.