SUBSTRATE CLEANING LINE AND SUBSTRATE CLEANING SYSTEM COMPRISING THE SAME
A substrate cleaning line and a substrate cleaning system including the same are disclosed. The substrate cleaning line according to one embodiment includes: a chamber unit including a plurality of cleaning chambers for cleaning a substrate; and a first transfer robot carrying in, unloading, or tran...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | A substrate cleaning line and a substrate cleaning system including the same are disclosed. The substrate cleaning line according to one embodiment includes: a chamber unit including a plurality of cleaning chambers for cleaning a substrate; and a first transfer robot carrying in, unloading, or transferring the substrate to the plurality of cleaning chambers. Each of the plurality of cleaning chambers may be vertically stacked.
기판 세정 라인 및 이를 포함하는 기판 세정 시스템일 개시한다. 일 실시 예에 따른 기판 세정 라인은, 기판을 세정하기 위한 복수 개의 세정 챔버를 포함하는 챔버부; 및 상기 복수 개의 세정 챔버에 대하여 상기 기판을 반입, 반출 또는 이송하는 제1 반송 로봇을 포함하고, 상기 복수 개의 세정 챔버는 각각 수직 방향으로 적층 될 수 있다. |
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