급속 챔버 진공 누설 검사 하드웨어 및 유지 보수 루틴

프로세싱 챔버 내의 진공 누설을 검출하기 위한 방법들 및 장치들이 본원에서 설명된다. 보다 구체적으로, 방법들 및 장치들은 프로세스 챔버가 누설 테스트 압력에서 유지되는 동안 프로세스 챔버 내의 누설률을 결정하기 위해 스펙트럼 게이지와 같은 스펙트럼 측정 디바이스를 활용하는 것에 관한 것이다. 스펙트럼 측정 디바이스는 프로세싱 챔버 내에서 하나 이상의 가스들의 증가율을 결정하고 프로세싱 챔버가 누설 테스트를 통과 또는 실패하는지를 결정하는 데 사용될 수 있다. Methods and apparatus for detecting a vacuum leak within a processing chamber are described herein. More specifically, the methods and apparatus relate to the utilization of a spectral measurement device, such as a spectral gauge, to determine the leak rate within a process chamber while the process chamber is held at a leak test pressure. The spectral measurement device determines the rate of increase of one or more gases within the processing chamber and can be used to determine if the processing chamber passes or fails the leak test.