SUBSTRATE TYPE SENSOR FOR MEASURING CONDITION OF PROCESS CHAMBER AND DATA COLLECTING SYSTEM HAVING THE SAME

The present invention provides a substrate-type sensor which allows automation for measuring the state of a process chamber. According to the present invention, the substrate-type sensor for measuring the state of a process chamber comprises: a trigger sensor sensing at least one condition for measurement start and measurement end; at least one measurement sensor measuring or ending a physical quantity to be measured in response to the trigger signal; a power circuit supplying power from a carrier; a communication circuit transmitting data measured from the at least one measurement sensor to an external device via wireless communication; a memory storing a measurement algorithm generating the trigger signal corresponding to the measurement start or the measurement end; and a central processing device executing the measurement algorithm. 본 발명에 따른 프로세스 챔버의 상태를 측정하는 기판형 센서는, 계측 시작과 계측 종료를 위한 적어도 하나의 조건을 감지하는 트리거 센서, 트리거 신호에 응답하여 계측 대상 물리량을 측정하거나 종료하는 적어도 하나의 측정 센서, 캐리어로부터 전원을 공급하는 전원 회로, 상기 적어도 하나의 측정 센서로부터 측정된 데이터를 무선 통신을 통하여 외부의 장치로 전송하는 통신 회로, 상기 계측 시작 혹은 상기 계측 종료에 대응하는 상기 트리거 신호를 발생하는 계측 알고리즘을 저장하는 메모리, 및 상기 계측 알고리즘을 실행하는 중앙 처리 장치를 포함할 수 있다.