HEAT TREATING DEVICE
The present invention provides a heating treatment device, which can more minutely control the temperature of the surface of a workpiece to which an object for heat treatment is attached, the temperature of the rear surface of the workpiece, and the uneven temperature distribution in the plane of th...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention provides a heating treatment device, which can more minutely control the temperature of the surface of a workpiece to which an object for heat treatment is attached, the temperature of the rear surface of the workpiece, and the uneven temperature distribution in the plane of the workpiece, even if heating is performed from both sides of the workpiece, by a simplified method. The heat treatment device according to an aspect comprises: a chamber; a first heating unit which is provided inside the chamber, and has at least one first heater; a second heating unit which is provided inside the chamber, has at least one second heater, and faces the first heating unit; at least one first cracked plate which is provided between the first heating unit and the second heating unit; at least one second cracked plate which is provided between the first cracked plate and the second heating unit; a first treatment area which is provided between the first cracked plate and the second cracked plate, and on which the workpiece is supported; a first temperature control unit which is provided on the first cracked plate; and a second temperature control unit which is provided on the second cracked plate. The first temperature control unit comprises a first radiation unit which is provided with a gap intervening between the first radiation unit and the first cracked plate. The second temperature control unit comprises a second radiation unit which is provided with a gap intervening between the second radiation unit and the second cracked plate.
[과제] 워크의 양면측으로부터 가열을 행하는 경우라도, 가열 처리의 대상물이 부착되어 있는 워크의 표면의 온도 및 워크의 이면의 온도와, 워크의 면내에 있어서의 온도 분포의 불균일을 간이한 방법으로 보다 상세하게 제어 가능한 가열 처리 장치를 제공하는 것이다. [해결수단] 실시형태에 따른 가열 처리 장치는, 챔버와, 상기 챔버의 내부에 마련되며, 적어도 하나의 제1 히터를 갖는 제1 가열부와, 상기 챔버의 내부에 마련되며, 적어도 하나의 제2 히터를 갖고, 상기 제1 가열부와 대향하는 제2 가열부와, 상기 제1 가열부와 상기 제2 가열부 사이에 마련된 적어도 하나의 제1 균열판과, 상기 제1 균열판과 상기 제2 가열부 사이에 마련된 적어도 하나의 제2 균열판과, 상기 제1 균열판과 상기 제2 균열판 사이로서, 워크가 지지되는 제1 처리 영역과, 상기 제1 균열판에 마련된 제1 온도 제어부와, 상기 제2 균열판에 마련된 제2 온도 제어부를 구비하고 있다. 상기 제1 온도 제어부는, 상기 제1 균열판과 간극을 개재시켜 마련된 제1 방사부를 갖고 있다. 상기 제2 온도 제어부는, 상기 제2 균열판과 간극을 개재시켜 마련된 제2 방사부를 갖는다. |
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