높은 각도 추출 광학부들을 포함하는 프로세싱 시스템 및 추출 어셈블리

프로세싱 시스템은, 플라즈마를 생성하도록 동작가능한 플라즈마 챔버, 및 플라즈마 챔버의 측면을 따라 배열된 추출 어셈블리를 포함할 수 있다. 추출 어셈블리는 추출 개구를 포함하는 추출 플레이트를 포함할 수 있으며, 추출 플레이트는 비-평면 형상을 가지고, 기판의 평면이 플라즈마 챔버의 측면에 평행하게 배열될 때 기판의 평면에 대한 수선에 대해 높은 입사각으로 추출된 이온 빔을 생성한다. A processing system may include a plasma chamber operable to generate a plasma, an...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: OLSON JOSEPH C, TEFERI MINAB B, BILOIU COSTEL, SINCLAIR FRANK, DANIELS KEVIN M, KURUNCZI PETER F, RYAN KEVIN T, CAMPBELL CHRISTOPHER, WALLACE JAY R
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:프로세싱 시스템은, 플라즈마를 생성하도록 동작가능한 플라즈마 챔버, 및 플라즈마 챔버의 측면을 따라 배열된 추출 어셈블리를 포함할 수 있다. 추출 어셈블리는 추출 개구를 포함하는 추출 플레이트를 포함할 수 있으며, 추출 플레이트는 비-평면 형상을 가지고, 기판의 평면이 플라즈마 챔버의 측면에 평행하게 배열될 때 기판의 평면에 대한 수선에 대해 높은 입사각으로 추출된 이온 빔을 생성한다. A processing system may include a plasma chamber operable to generate a plasma, and an extraction assembly, arranged along a side of the plasma chamber. The extraction assembly may include an extraction plate including an extraction aperture, the extraction plate having a non-planar shape, and generating an extracted ion beam at a high angle of incidence with respect to a perpendicular to a plane of a substrate, when the plane of the substrate is arranged parallel to the side of the plasma chamber.