분산된 플라즈마 소스 어레이

기판 프로세싱 시스템은 윈도우를 포함하는 프로세싱 챔버를 포함한다. 기판 지지부는 플라즈마 프로세싱 동안 기판을 지지하도록 프로세싱 챔버 내부에 배치된다 (arrange). 제 1 어레이는 프로세싱 챔버에 인접하게 그리고 프로세싱 챔버 외부에 배치된 E 개의 유도 코일들을 포함하고, 여기서 E는 3보다 보다 큰 정수이다. 제 2 어레이는 무선 주파수 (radio frequency; RF) 전력을 제 1 어레이로 출력하고, 그리고 프로세싱 챔버 내부에 플라즈마를 생성하도록 구성된 D 개의 RF 직접 구동 회로들을 포함하고, 여기서 D는 3보다 보다 큰 정수이다. A substrate processing system includes a processing chamber including a window. A substrate support is arranged inside the processing chamber to support a substrate during plasma processing. A first array including E inductive coils arranged adjacent to and outside of the processing chamber, where E is an integer greater than three. A second array includes D RF direct drive circuits configured to output RF power to the first array, where D is an integer greater than three, and to generate plasma inside of the processing chamber.