어시스트 피처의 프린팅 확률을 결정하는 시스템, 방법, 및 제품 및 그 적용
본 명세서에서, 마스크 패턴의 어시스트 피처가 기판 상에 프린트될 가능성을 결정하는 방법이 설명된다. 상기 방법은 (ⅰ) 기판 상에 프린트된 패턴의 복수의 이미지들, 및 (ⅱ) 패턴의 복수의 이미지들의 분산 데이터를 얻는 단계; 분산 데이터에 기초하여, 마스크 패턴과 연계된 분산 데이터를 생성하도록 구성되는 모델을 결정하는 단계; 및 주어진 마스크 패턴에 대한 모델-생성 분산 데이터 및 주어진 마스크 패턴과 연계된 레지스트 이미지 또는 에칭 이미지에 기초하여, 주어진 마스크 패턴의 어시스트 피처가 기판 상에 프린트될 가능성을 결정하...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 본 명세서에서, 마스크 패턴의 어시스트 피처가 기판 상에 프린트될 가능성을 결정하는 방법이 설명된다. 상기 방법은 (ⅰ) 기판 상에 프린트된 패턴의 복수의 이미지들, 및 (ⅱ) 패턴의 복수의 이미지들의 분산 데이터를 얻는 단계; 분산 데이터에 기초하여, 마스크 패턴과 연계된 분산 데이터를 생성하도록 구성되는 모델을 결정하는 단계; 및 주어진 마스크 패턴에 대한 모델-생성 분산 데이터 및 주어진 마스크 패턴과 연계된 레지스트 이미지 또는 에칭 이미지에 기초하여, 주어진 마스크 패턴의 어시스트 피처가 기판 상에 프린트될 가능성을 결정하는 단계를 포함한다. 가능성은 어시스트 피처가 기판 상에 프린트될 가능성을 감소시키도록 패터닝 공정 또는 패터닝 장치와 관련된 1 이상의 파라미터를 조정하기 위해 적용된다.
A method for determining a likelihood that an assist feature of a mask pattern will print on a substrate. The method includes obtaining (i) a plurality of images of a pattern printed on a substrate and (ii) variance data the plurality of images of the pattern; determining, based on the variance data, a model configured to generate variance data associated with the mask pattern; and determining, based on model-generated variance data for a given mask pattern and a resist image or etch image associated with the given mask pattern, the likelihood that an assist feature of the given mask pattern will be printed on the substrate. The likelihood can be applied to adjust one or more parameters related to a patterning process or a patterning apparatus to reduce the likelihood that the assist feature will print on the substrate. |
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