석회질 방지 조성물

탈석회화 및 제석 제거제로서 조성물을 사용하는 방법으로서, 상기 조성물은: 다음으로부터 선택되는 a) 제1 용매로서: a1) 공융 용매로서, 수소 결합 받게와 수소 결합 주게로 이루어진 공융 용매, a2) 이온성 액체 또는 a3) 상기 공융 용매와 상기 이온성 액체의 혼합물; 적어도 저급 알코올, 물 또는 상기 알코올과 물의 혼합물로부터 선택되는 b) 제2 용매와 선택적으로 회합되는 제1 용매를 포함하며, 여기서 제1 공융 용매 a1) 에서 수소 결합 받게 및 수소 결합 주게는 할로겐이 없다. Use as a decalcifying...

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Hauptverfasser: MELE ANDREA, COLOMBO DUGONI GRETA, FERRO MONICA
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:탈석회화 및 제석 제거제로서 조성물을 사용하는 방법으로서, 상기 조성물은: 다음으로부터 선택되는 a) 제1 용매로서: a1) 공융 용매로서, 수소 결합 받게와 수소 결합 주게로 이루어진 공융 용매, a2) 이온성 액체 또는 a3) 상기 공융 용매와 상기 이온성 액체의 혼합물; 적어도 저급 알코올, 물 또는 상기 알코올과 물의 혼합물로부터 선택되는 b) 제2 용매와 선택적으로 회합되는 제1 용매를 포함하며, 여기서 제1 공융 용매 a1) 에서 수소 결합 받게 및 수소 결합 주게는 할로겐이 없다. Use as a decalcifying and descaling remover of a composition comprising:a) a first solvent selected from:a1) a eutectic solvent consisting of a hydrogen bond acceptor and of a hydrogen bond donor,a2) an ionic liquid ora3) a mixture of said eutectic solvent and said ionic liquid;optionally associated with a second solvent b) selected from at least a lower alcohol, water or mixtures thereof, whereinin the first eutectic solvent a1) the hydrogen bond acceptor and the hydrogen bond donor are halogen-free.