SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING CHAMBER COVER
A substrate processing apparatus includes a first polishing chamber, a second polishing chamber, a dry polishing chamber, and a loading chamber on a turn table. The dry polishing chamber includes: a polishing device on the turntable; and a chamber cover including a cover plate, a blocking filter dis...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | A substrate processing apparatus includes a first polishing chamber, a second polishing chamber, a dry polishing chamber, and a loading chamber on a turn table. The dry polishing chamber includes: a polishing device on the turntable; and a chamber cover including a cover plate, a blocking filter disposed at an intake port formed in the cover plate, and a particle barrier connected to the cover plate. The particle barrier faces the blocking filter and is disposed between the polishing device and the blocking filter.
기판 처리 장치는 턴 테이블 상의 제1 연마 챔버, 제2 연마 챔버, 건식 연마 챔버 및 로딩 챔버를 포함한다. 상기 건식 연마 챔버는 상기 턴 테이블 상의 연마 장치; 및 커버 플레이트, 상기 커버 플레이트에 형성된 흡기구에 배치된 차단 필터 및 상기 커버 플레이트와 연결된 파티클 배리어를 포함하는 챔버 커버를 포함한다. 상기 파티클 배리어는 상기 차단 필터와 대향하며, 상기 연마 장치와 상기 차단 필터 사이에 배치된다. |
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