편광 제어 시스템

입사 전자기 방사선과 상호작용하도록 구성된 광학 요소를 포함하는 레이저용 편광 제어 시스템. 편광 제어 시스템은 상기 전자기 방사선의 편광을 조절하도록 광학 요소를 이동시키도록 구성된 액츄에이터를 더 포함한다. 액츄에이터는 전자기 방사선의 편광을 조절하도록 광학 요소를 제 1 축 중심으로 회전시키도록 구성된다. 액츄에이터는 전자기 방사선의 이감쇠(diattenuation)를 조절하도록 광학 요소를 제 2 축 중심으로 회전시키도록 구성된다. A polarization control system (200) for a laser comp...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MUYS PETER FRANS MARIA, MULDER HEINE MELLE, VAN ZWOL ADRIAAN ROELOF, MATHEW JOHN PHILIP
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	입사 전자기 방사선과 상호작용하도록 구성된 광학 요소를 포함하는 레이저용 편광 제어 시스템. 편광 제어 시스템은 상기 전자기 방사선의 편광을 조절하도록 광학 요소를 이동시키도록 구성된 액츄에이터를 더 포함한다. 액츄에이터는 전자기 방사선의 편광을 조절하도록 광학 요소를 제 1 축 중심으로 회전시키도록 구성된다. 액츄에이터는 전자기 방사선의 이감쇠(diattenuation)를 조절하도록 광학 요소를 제 2 축 중심으로 회전시키도록 구성된다. A polarization control system (200) for a laser comprising an optical element (210) configured to interact with incident electromagnetic radiation (245). The polarization control system also comprises an actuator (220) configured to move the optical element to adjust a polarization of the electromagnetic radiation. The actuator is configured to rotate the optical element about a first axis (225) to adjust a polarization of the electromagnetic radiation. The actuator is configured to rotate the optical element about a second axis to adjust a diattenuation of the electromagnetic radiation.