중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법, 및 감광성 수지 조성물 및 그 경화물

알칼리 현상에 의한 해상도가 우수한 패터닝이 가능한 감광성 수지 조성물로서, 내약품성도 우수하고, 게다가 심 폴딩 내성과 같은 신뢰성도 우수한 절연막 등에 적용할 수 있는 경화물을 부여하는 감광성 수지 조성물 및 그것에 사용되는 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법을 제공하는 것. 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지와, 디카르복실산, 트리카르복실산 또는 이들의 산무수물, 및 테트라카르복실산 또는 그 산 2무수물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지...

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Hauptverfasser: YU KIHWAN, SOH MASAHIRO, ISHIHARA KAZUO, LIM CHEONGRAE
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:알칼리 현상에 의한 해상도가 우수한 패터닝이 가능한 감광성 수지 조성물로서, 내약품성도 우수하고, 게다가 심 폴딩 내성과 같은 신뢰성도 우수한 절연막 등에 적용할 수 있는 경화물을 부여하는 감광성 수지 조성물 및 그것에 사용되는 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법을 제공하는 것. 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지와, 디카르복실산, 트리카르복실산 또는 이들의 산무수물, 및 테트라카르복실산 또는 그 산 2무수물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지의 제조 방법. 여기서, R1은 탄소수 1∼8개의 알킬기, 페닐기 또는 알릴기를 나타내고, R2는 수소원자 또는 디시클로펜테닐기를 나타내고, R3은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. JPEGpct00012.jpg32158 Provided are: a photosensitive resin composition capable of patterning at exceptional resolution by alkaline development, the photosensitive resin composition yielding a cured product that can be applied to an insulating film, etc., having exceptional chemical resistance and also exceptional reliability such as seam folding resistance; a polymerizable-unsaturated-group-containing alkali-soluble resin used in said photosensitive resin composition; and a method for producing said resin. A method for producing a polymerizable-unsaturated-group-containing alkali-soluble resin, the method being characterized in that an epoxy (meth)acrylate resin represented by general formula (1) is reacted with a dicarboxylic acid, tricarboxylic acid, or acid anhydride thereof and a tetracarboxylic acid or an acid dianhydride thereof. Herein, R1 represents a C1-8 alkyl group, a phenyl group, or an allyl group, R2 represents a hydrogen atom or a dicyclopentenyl group, and R3 represents a hydrogen atom or a methyl group.