다중-신호 측정을 위해 의도된 오버레이 타겟을 위한 타겟 설계 프로세스
시뮬레이션 범위에 대한 경계 세트 또는/및 하나 이상의 계측 도구와 호환가능한 선택된 설계 유형에 대한 제1 후보 타겟 설계를 생성하는 것을 포함하는 계측 타겟 설계를 결정하기 위한 방법, 시스템 및 컴퓨터 프로그램 제품이 개시된다. 시뮬레이션 범위의 경계 내에서 하나 이상의 계측 도구를 사용한 제1 타겟 설계의 측정이 하나 이상의 성능 메트릭을 생성하기 위해 둘 이상의 측정 설정에 대해 시뮬레이션된다. 측정을 시뮬레이션하는 것은 스택 프로파일에서 하나 이상의 층의 층 속성을 고려한다. 최적의 설계는 하나 이상의 선택 기준에 기초한...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 시뮬레이션 범위에 대한 경계 세트 또는/및 하나 이상의 계측 도구와 호환가능한 선택된 설계 유형에 대한 제1 후보 타겟 설계를 생성하는 것을 포함하는 계측 타겟 설계를 결정하기 위한 방법, 시스템 및 컴퓨터 프로그램 제품이 개시된다. 시뮬레이션 범위의 경계 내에서 하나 이상의 계측 도구를 사용한 제1 타겟 설계의 측정이 하나 이상의 성능 메트릭을 생성하기 위해 둘 이상의 측정 설정에 대해 시뮬레이션된다. 측정을 시뮬레이션하는 것은 스택 프로파일에서 하나 이상의 층의 층 속성을 고려한다. 최적의 설계는 하나 이상의 선택 기준에 기초한 적어도 성능 메트릭으로부터 결정된 후, 전송되거나 저장된다.
A method, system and computer program product for determination of a metrology target design, comprising generating a first candidate target design for a selected design type compatible with one or more metrology tools or and a set of boundaries for a simulation range Measurement of the first target design with the one or more metrology tools within the boundaries of the simulation range is simulated for two or more measurement settings to generate one or more performance metrics. Simulating the measurement takes into account layer properties of one or more layers in a stack profile. The optimal design is determined from at least the performance metrics based on one or more selection criteria and then sent or stored. |
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