Inductively coupled plasma processing apparatus

The present invention relates to an inductive coupling plasma processing device. The present invention comprises: a chamber main body; a support frame; a plurality of windows; a substrate support part; a gas injection part; and an antenna part. Therefore, the present invention is capable of having an advantage in preventing weakening of an induced electric field due to a formation of eddy currents. 본 발명은 유도결합 플라즈마 처리장치에 관한 것이다. 본 발명은, 평면형상이 직사각형 형상을 가지며, 상측에 개구부(112)가 형성된 챔버본체(100)와; 개구부(112)에 설치되며 복수의 설치개구들을 형성하는 지지프레임(700)과; 복수의 설치개구들 각각에 설치되는 복수의 윈도우(200)들과; 챔버본체(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(300)와; 처리공간(S)으로 가스를 분사하는 가스분사부와; 윈도우(200)의 상측에 설치되어 처리공간(S)에 유도전계를 형성하는 안테나부(500)를 포함하며, 지지프레임(700)은, 개구부(112)의 가장자리에 대응되어 설치되는 직사각형 외곽프레임(710)과; 서로 교차하도록 설치되어 동일한 크기의 4개의 구획영역(W1, W2, W3, W4)들로 구획하는 제1구획프레임(721) 및 제2구획프레임(722)과; 일단이 제1구획프레임(721) 및 제2구획프레임(722) 중 어느 하나와 연결되고 타단이 외곽프레임(710)과 연결되어 구획영역(W1, W2, W3, W4)을 복수의 설치개구들로 분할하는 하나 이상의 분할프레임(730)을 포함하며, 분할프레임(730)은, 제1구획프레임(721) 및 제2구획프레임(722) 중 어느 하나와 평행을 이루며, 그에 인접한 구획영역(W1, W2, W3, W4)의 분할프레임(730)은, 제1구획프레임(721) 및 제2구획프레임(722) 중 나머지 하나와 평행을 이루는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치를 개시한다.