Contaminant Trap System for a Reactor System

A contaminant trap system of a reactor system may comprise a baffle plate stack including: at least one baffle plate comprising an aperture spanning through a baffle plate body of the baffle plate, and a body portion; and at least one complementary baffle plate comprising a complementary aperture sp...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	KIMTEE ANKIT
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SEPARATION SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	A contaminant trap system of a reactor system may comprise a baffle plate stack including: at least one baffle plate comprising an aperture spanning through a baffle plate body of the baffle plate, and a body portion; and at least one complementary baffle plate comprising a complementary aperture spanning through a complementary baffle plate body of the complementary baffle plate, and a complementary body portion. The at least one baffle plate and the at least one complementary baffle plate may be disposed in a baffle plate order between a first end and a second end of the baffle plate stack in which the baffle plates alternate with the complementary baffle plates, such that no two of the baffle plates or no two of the complementary baffle plates are adjacent in the baffle plate order. The at least one baffle plate may contain a sintered material. 반응기 시스템의 오염물 트랩 시스템은, 배플 플레이트의 배플 플레이트 몸체를 관통해 걸치는 애퍼처와 몸체 부분을 포함한 적어도 하나의 배플 플레이트; 및 상보성 배플 플레이트의 상보성 배플 플레이트 몸체를 관통해 걸치는 상보성 애퍼처와 상보성 몸체 부분을 포함한 적어도 하나의 상보성 배플 플레이트를 포함하는 배플 플레이트 스택을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 배플 플레이트와 적어도 하나의 상보성 배플 플레이트는, 배플 플레이트 스택의 제1 말단부와 제2 말단부 사이에서 배플 플레이트가 상보성 배플 플레이트와 교번하는 배플 플레이트 순서로 배치될 수 있어서, 배플 플레이트 중 어느 두 개와 상보성 배플 플레이트 중 어느 두 개도 배플 플레이트 순서에서 인접하지 않는다. 적어도 하나의 배플 플레이트는 소결 재료를 포함할 수 있다.