폴리이미드 전구체 조성물 및 폴리이미드 필름/기재 적층체
휨이 작은 폴리이미드 필름/기재 적층체를 제조하는 것이 가능하고, 또한 안정성이 우수한 폴리이미드 전구체 조성물이 제공된다. 폴리이미드 전구체 조성물은, 폴리이미드 전구체, 상기 폴리이미드 전구체의 폴리이미드 환산 질량 100질량부에 대하여 0.5질량부 초과 내지 30질량부 미만의 양의 굴절률이 1.54 이상의 페닐기 함유 직쇄상 실록산 화합물, 및 용매를 함유한다. Provided is a polyimide precursor composition that has excellent stability and that enables p...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 휨이 작은 폴리이미드 필름/기재 적층체를 제조하는 것이 가능하고, 또한 안정성이 우수한 폴리이미드 전구체 조성물이 제공된다. 폴리이미드 전구체 조성물은, 폴리이미드 전구체, 상기 폴리이미드 전구체의 폴리이미드 환산 질량 100질량부에 대하여 0.5질량부 초과 내지 30질량부 미만의 양의 굴절률이 1.54 이상의 페닐기 함유 직쇄상 실록산 화합물, 및 용매를 함유한다.
Provided is a polyimide precursor composition that has excellent stability and that enables production of a polyimide film/substrate laminate having less warpage. The polyimide precursor composition contains: a polyimide precursor; a phenyl group-containing linear siloxane compound that has a refractive index of 1.54 or greater and that is contained in an amount more than 0.5 parts by mass but less than 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass expressed in terms of polyimides of the polyimide precursor; and a solvent. |
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