세정용 지그, 도포 장치 및 세정 방법

용기 내에 배치되는 회전 유지 장치에 유지되는 기판의 위에 처리액을 공급하고, 상기 기판의 회전에 의해 상기 기판 상에 상기 처리액의 막을 형성하는 회전 도포 장치에서, 상기 회전 유지 장치에 기판과 동일하게 유지되는 상태로 상기 용기 내의 세정에 이용하는 원반형의 세정용 지그로서, 상기 세정용 지그의 둘레 가장자리부에는, 둘레 가장자리 천장부와 둘레 가장자리 바닥부가 전체 둘레에 걸쳐 형성되고, 상기 둘레 가장자리 천장부와 둘레 가장자리 바닥부의 사이에는, 토출구가 전체 둘레에 걸쳐 형성되며, 상기 둘레 가장자리 바닥부에는, 상기...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SHIMMURA SATOSHI, TAKAYANAGI KOJI, SHIBASAKI KENTA, INADA HIROICHI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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