술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물

활성 에너지선, 특히 i 선 또는 h 선에 높은 광 감응성을 갖는 새로운 술포늄염, 및 i 선 또는 h 선에 높은 광 감응성을 가지며, 또한 용매 및 에폭시 화합물 등의 카티온 중합성 화합물에 대한 용해성이 높고, 그 배합물에 있어서 저장 안정성이 우수한 술포늄염을 함유하여 이루어지는, 새로운 광산 발생제 등을 제공한다. 본 발명은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 술포늄염 및 그 술포늄염을 함유하는 것을 특징으로 하는 광산 발생제 등이다. TIFFpct00037.tif2883 Provided are: a new sulfonium...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	NAKAMURA YUJI, NAKAO TAKUTO
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	활성 에너지선, 특히 i 선 또는 h 선에 높은 광 감응성을 갖는 새로운 술포늄염, 및 i 선 또는 h 선에 높은 광 감응성을 가지며, 또한 용매 및 에폭시 화합물 등의 카티온 중합성 화합물에 대한 용해성이 높고, 그 배합물에 있어서 저장 안정성이 우수한 술포늄염을 함유하여 이루어지는, 새로운 광산 발생제 등을 제공한다. 본 발명은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 술포늄염 및 그 술포늄염을 함유하는 것을 특징으로 하는 광산 발생제 등이다. TIFFpct00037.tif2883 Provided are: a new sulfonium salt highly photosensitive to active energy ray, in particular, i-line or h- line; and a new photoacid generator which is highly photosensitive to i-line or h- line, and comprises a sulfonium salt that is highly soluble in a solvent and a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound, and has excellent storage stability in the formulation. The present invention pertains to a sulfonium salt represented by general formula (1), and a photoacid generator comprising said sulfonium salt.