멀티빔 생성 유닛 및 멀티빔 편향 유닛의 명백한 개선

멀티빔 하전 입자 현미경의 멀티빔 생성 유닛 및 멀티빔 편향 유닛과 같은 멀티빔 래스터 유닛의 특정 개선 사항이 제공된다. 개선 사항에는 특정 모양과 치수의 구멍을 포함한 멀티빔 래스터 유닛의 설계, 제작 및 조정이 포함된다. 개선 사항으로 멀티빔 생성 및 멀티빔 편향 또는 스티그메이션이 더 높은 정밀도로 가능하다. 이러한 개선 사항은 예를 들어 높은 신뢰성과 높은 재현성 및 낮은 기계 간 편차가 필요한 반도체 검사 및 검토와 같이 멀티빔 하전 입자 현미경의 일상적인 적용과 관련이 있다. Certain improvements of multi-beam raster units such as multi-beam generating units and multi-beam deflector units of a multi-beam charged particle microscopes are provided. The improvements include design, fabrication and adjustment of multi-beam raster units including apertures of specific shape and dimensions. The improvements can enable multi-beam generation and multi-beam deflection or stigmation with higher precision. The improvements can be relevant for routine applications of multi-beam charged particle microscopes, for example in semiconductor inspection and review, where high reliability and high reproducibility and low machine-to-machine deviations are desirable.