피막이 형성된 기재 및 그 제조 방법

다공체의 표면에 도공했을 때에, 다공체의 구멍을 유지하면서, 분말 떨어짐이 발생하기 어려운 다공막층을 형성할 수 있는 입자상의 피막이 형성된 기재의 제공. 입자인 기재와, 상기 기재의 표면을 피복하는 불소 수지의 피막을 갖고, 상기 불소 수지의 멜트 플로 레이트가 0.01 ∼ 100 g/10 분인, 피막이 형성된 기재. To provide a base material with a particulate coating film that, when coated on the surface of a porous body, can form a...

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1. Verfasser: KAMITANI RYOSUKE
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:다공체의 표면에 도공했을 때에, 다공체의 구멍을 유지하면서, 분말 떨어짐이 발생하기 어려운 다공막층을 형성할 수 있는 입자상의 피막이 형성된 기재의 제공. 입자인 기재와, 상기 기재의 표면을 피복하는 불소 수지의 피막을 갖고, 상기 불소 수지의 멜트 플로 레이트가 0.01 ∼ 100 g/10 분인, 피막이 형성된 기재. To provide a base material with a particulate coating film that, when coated on the surface of a porous body, can form a porous film layer that is resistant to powder fallout while maintaining the pores in the porous body.The base material with a coating film, comprising a base material being particles, and a coating film of a fluororesin covering the surface of the base material, wherein the melt flow rate of the fluororesin is from 0.01 to 100 g/10 min.