섬유성 아미노산계 기질, 특히 모발 처리를 위한 지방산 고분자 화합물
본 발명은 화학식 (I)의 모노-, 디- 또는 폴리4급 암모늄 화합물에 관한 것이다. R1(-F)x (I) 여기서, x는 1 내지 50 이고, F는 동일하거나 상이하고, 화학식 (II)로 표시되며, JPEGpct00375.jpg4985 여기서, 임의로 치환되고 임의로 작용기를 함유하는 탄화수소 라디칼 R1, R2, R3, R4 또는 R5 중 적어도 하나는 2개 이상의 에스테르 또는 아미드 모이어티를 포함하는 적어도 하나의 에스톨라이드 모이어티를 함유한다. 또한, 본 발명은 이러한 화합물의 합성방법, 피부 및 모발 관리용 화장료 제형...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 본 발명은 화학식 (I)의 모노-, 디- 또는 폴리4급 암모늄 화합물에 관한 것이다. R1(-F)x (I) 여기서, x는 1 내지 50 이고, F는 동일하거나 상이하고, 화학식 (II)로 표시되며, JPEGpct00375.jpg4985 여기서, 임의로 치환되고 임의로 작용기를 함유하는 탄화수소 라디칼 R1, R2, R3, R4 또는 R5 중 적어도 하나는 2개 이상의 에스테르 또는 아미드 모이어티를 포함하는 적어도 하나의 에스톨라이드 모이어티를 함유한다. 또한, 본 발명은 이러한 화합물의 합성방법, 피부 및 모발 관리용 화장료 제형에서의 화합물의 용도, 섬유 처리용 화장료 조성물, 및 하나 이상의 화합물을 포함하는 모발 처리용 조성물에 관한 것이다.
The present invention is directed at mono-, di- or polyquaternary ammonium compounds of the formula (I) wherein x is 1 to 50, and F can be the same or different and is represented by the general formula (II) wherein at least one of the optionally substituted and optionally functional-group-containing hydrocarbon radicals R1, R2, R3, R4 or R5 contains at least one estolide moiety comprising two or more ester or amide moieties. The invention also relates to a process for the synthesis of such compounds, the use of the compounds in cosmetic formulations for skin and hair care, cosmetic compositions for the treatment of fibers, and compositions containing one or more of the compounds for the treatment of hair. |
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