재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치
재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 한 배열체에서, 증착-공정 재료는 가스 형태로 제공된다. 증착-공정 재료의 층은 가스 증착-공정 재료의 응축 또는 증착을 야기함으로써 기판 상에 형성된다. 증착-공정 재료의 층의 선택된 부분은 조사되어 선택된 부분 내의 증착-공정 재료를 개질시킨다. Methods and apparatus for forming a patterned layer of material are disclosed. In one arrangement, a deposition-process mater...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | 재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 한 배열체에서, 증착-공정 재료는 가스 형태로 제공된다. 증착-공정 재료의 층은 가스 증착-공정 재료의 응축 또는 증착을 야기함으로써 기판 상에 형성된다. 증착-공정 재료의 층의 선택된 부분은 조사되어 선택된 부분 내의 증착-공정 재료를 개질시킨다.
Methods and apparatus for forming a patterned layer of material are disclosed. In one arrangement, a deposition-process material is provided in gaseous form. A layer of the deposition-process material is formed on the substrate by causing condensation or deposition of the gaseous deposition-process material. A selected portion of the layer of deposition-process material is irradiated to modify the deposition-process material in the selected portion. |
---|