재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치

재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 한 배열체에서, 증착-공정 재료는 가스 형태로 제공된다. 증착-공정 재료의 층은 가스 증착-공정 재료의 응축 또는 증착을 야기함으로써 기판 상에 형성된다. 증착-공정 재료의 층의 선택된 부분은 조사되어 선택된 부분 내의 증착-공정 재료를 개질시킨다. Methods and apparatus for forming a patterned layer of material are disclosed. In one arrangement, a deposition-process mater...

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Hauptverfasser: OVERKAMP JIM VINCENT, DE VRIES GOSSE CHARLES, CASTELLANOS ORTEGA SONIA, POLYAKOV ALEXEY OLEGOVICH, DRUZHININA TAMARA, COENEN TEIS JOHAN, KURGANOVA EVGENIA, LUGIER OLIVIER CHRISTIAN MAURICE
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:재료의 패터닝된 층을 형성하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 한 배열체에서, 증착-공정 재료는 가스 형태로 제공된다. 증착-공정 재료의 층은 가스 증착-공정 재료의 응축 또는 증착을 야기함으로써 기판 상에 형성된다. 증착-공정 재료의 층의 선택된 부분은 조사되어 선택된 부분 내의 증착-공정 재료를 개질시킨다. Methods and apparatus for forming a patterned layer of material are disclosed. In one arrangement, a deposition-process material is provided in gaseous form. A layer of the deposition-process material is formed on the substrate by causing condensation or deposition of the gaseous deposition-process material. A selected portion of the layer of deposition-process material is irradiated to modify the deposition-process material in the selected portion.