GAS TREATMENT APPARATUS

In accordance with the present invention, provided is a gas treatment apparatus capable of suppressing a defect of a substrate caused by particles during gas treatment using fluoride containing gas and basic gas. The gas treatment apparatus for performing gas treatment on a substrate includes: a chamber in which the substrate is housed; a gas supply mechanism separately supplying fluorine containing gas and basic gas; and a gas introduction member introducing mixed gas of the fluorine containing gas and the basic gas into the chamber by joining the fluorine containing gas and the basic gas supplied from the gas supply mechanism. A part including a junction of the fluorine containing gas and the basic gas of the gas introduction member is made of an aluminum-based material, and at least a resin coating is formed on the part including the junction. 본 발명은, 불소 함유 가스와 염기성 가스를 사용하는 가스 처리 시에, 파티클에 의해 기판에 결함이 생기는 것을 억제 가능한 가스 처리 장치를 제공한다. 기판에 가스 처리를 실시하는 가스 처리 장치는, 기판이 수용되는 챔버와, 불소 함유 가스와 염기성 가스를 개별로 공급하는 가스 공급 기구와, 가스 공급 기구로부터 공급된 불소 함유 가스와 염기성 가스를 합류시켜, 불소 함유 가스와 염기성 가스가 혼합된 혼합 가스를 챔버에 도입하는 가스 도입 부재를 갖고, 가스 도입 부재의 불소 함유 가스와 염기성 가스의 합류 개소를 포함하는 부분은, 알루미늄계 재료로 구성되어 있고, 적어도, 합류 개소를 포함하는 부분에 수지 코팅이 형성되어 있다.