SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

The present invention provides a technique for obtaining an index indicating a concentration of a drying liquid occupied in a mixed fluid. A substrate processing device has a processing container, a discharge line, and a density detection unit. The processing container is supplied with a supercritical fluid to replace the drying liquid applied onto a substrate with a supercritical fluid, thereby drying the substrate. The discharge line discharges a mixed fluid including the supercritical fluid and the drying liquid from the inside of the processing container. The density detection unit detects density of the mixed fluid flowing through the discharge line. 본 발명은, 혼합 유체에서 차지하는 건조액의 농도를 나타내는 지표를 얻는 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는, 처리 용기와, 배출 라인과, 밀도 검출부를 갖는다. 상기 처리 용기는, 초임계 유체가 공급되어, 기판 상에 도포된 건조액을 상기 초임계 유체로 치환함으로써, 상기 기판을 건조시킨다. 상기 배출 라인은, 상기 처리 용기의 내부로부터, 상기 초임계 유체와 상기 건조액을 포함하는 혼합 유체를 배출한다. 상기 밀도 검출부는, 상기 배출 라인을 흐르는 상기 혼합 유체의 밀도를 검출한다.