패턴 매칭 장치, 패턴 측정 시스템 및 비일시적 컴퓨터 가독 매체

패턴 매칭 장치는, 설계 데이터(104)에 의거하는 제1 패턴 데이터와 전자 현미경의 촬상 화상(102)을 나타내는 제2 패턴 데이터 사이에서 패턴 매칭 처리를 실행하는 컴퓨터 시스템을 구비한다. 컴퓨터 시스템은, 1개 이상의 제1 에지 후보를 포함하는 제1 에지 후보 그룹을 취득하고, 선출 필요 개수(제2 패턴 데이터에 의거해서 선출해야 할 제2 에지 후보의 수)를 취득하고, 선출 필요 개수의 제2 에지 후보를 포함하는 제2 에지 후보 그룹을 취득하고, 제1 에지 후보 그룹과 제2 에지 후보 그룹의 서로 다른 대응짓기의 조합의 각...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ABE YUICHI, NAGATOMO WATARU, LI LIANG
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CALCULATING CINEMATOGRAPHY COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS COMPUTING COUNTING ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	패턴 매칭 장치는, 설계 데이터(104)에 의거하는 제1 패턴 데이터와 전자 현미경의 촬상 화상(102)을 나타내는 제2 패턴 데이터 사이에서 패턴 매칭 처리를 실행하는 컴퓨터 시스템을 구비한다. 컴퓨터 시스템은, 1개 이상의 제1 에지 후보를 포함하는 제1 에지 후보 그룹을 취득하고, 선출 필요 개수(제2 패턴 데이터에 의거해서 선출해야 할 제2 에지 후보의 수)를 취득하고, 선출 필요 개수의 제2 에지 후보를 포함하는 제2 에지 후보 그룹을 취득하고, 제1 에지 후보 그룹과 제2 에지 후보 그룹의 서로 다른 대응짓기의 조합의 각각에 대하여 대응 평가값을 취득하고, 대응 평가값에 의거해서 조합 중 하나를 선택하고, 선택된 상기 조합에 의거해서, 매칭 시프트양을 계산한다. A pattern matching apparatus includes a computer system configured to execute pattern matching processing between first pattern data based on design data 104 and second pattern data representing a captured image 102 of an electron microscope. The computer system acquires a first edge candidate group including one or more first edge candidates, acquires a selection-required number (the number of second edge candidates to be selected based on the second pattern data), acquires a second edge candidate group including the second edge candidates of the selection-required number, acquires an association evaluation value for each of different association combinations between the first edge candidate group and the second edge candidate group, selects one of the combinations based on the association evaluation value, and calculates a matching shift amount based on the selected combination.