OCD 계측 머신 학습에 대한 이상치 및 이상 검출 시스템 및 방법

스캐터로메트리 데이터 및 참조 파라미터의 대응하는 세트의 복수 쌍을 포함하는 OCD 머신 학습(ML) 모델을 트레이닝하기 위한 트레이닝 데이터를 수신하는 것을 포함하는 OCD 계측을 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 각 쌍에 대해 하나 이상의 대응하는 이상치 메트릭스가 계산되고 주어진 쌍이 이상치 쌍인지 여부에 따라 대응하는 이상치 임계 값이 적용된다. 그런 다음 OCD ML 모델은 이상치 쌍을 뺀 트레이닝 데이터로 트레이닝 된다. A system and methods for OCD metrology are provided including receiving training data for training an OCD machine learning (ML) model, including multiple pairs of corresponding sets of scatterometric data and reference parameters. For each of the pairs, one or more corresponding outlier metrics are by calculated and corresponding outlier thresholds are applied whether a given pair is an outlier pair. The OCD MIL model is then trained with the training data less the outlier pairs.