가스를 처리하기 위한 시스템 및 방법

본 발명은 탄화수소-함유 유입 가스를 유출 가스 생성물로 변형시키기 위한 가스 처리 시스템을 포함하며, 여기서, 시스템은 가스 전달 서브시스템, 플라즈마 반응 챔버, 및 마이크로파 서브시스템을 포함하며, 가스 전달 서브시스템은 플라즈마 반응 챔버와 유체 소통하며, 이에 따라, 가스 전달 서브시스템은 탄화수소-함유 유입 가스를 플라즈마 반응 챔버 내로 유도하며, 마이크로파 서브시스템은 마이크로파 에너지를 플라즈마 반응 챔버로 유도하여 탄화수소-함유 유입 가스에 에너지를 공급하고, 이에 의해, 플라즈마 반응 챔버에서 플라즈마를 형성하며...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SOANE DAVID S, LEEDS MATHEW, O'REILLY MATTHEW ELIJAH, OCAMPO CHARLES E, HUMMELT JASON SAMUEL, SANTANA ALEXANDER OLSON, ASHCRAFT JAMES NATHAN, SODERHOLM MARK ELLIS
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 탄화수소-함유 유입 가스를 유출 가스 생성물로 변형시키기 위한 가스 처리 시스템을 포함하며, 여기서, 시스템은 가스 전달 서브시스템, 플라즈마 반응 챔버, 및 마이크로파 서브시스템을 포함하며, 가스 전달 서브시스템은 플라즈마 반응 챔버와 유체 소통하며, 이에 따라, 가스 전달 서브시스템은 탄화수소-함유 유입 가스를 플라즈마 반응 챔버 내로 유도하며, 마이크로파 서브시스템은 마이크로파 에너지를 플라즈마 반응 챔버로 유도하여 탄화수소-함유 유입 가스에 에너지를 공급하고, 이에 의해, 플라즈마 반응 챔버에서 플라즈마를 형성하며, 이러한 플라즈마는 탄화수소-함유 유입 가스에서 탄화수소의 유출 가스 생성물로의 변환을 달성하며, 이는 아세틸렌 및 수소를 포함한다. 본 발명은 또한, 이러한 가스 처리 시스템의 사용 방법을 포함한다. The invention includes a gas processing system for transforming a hydrocarbon-containing inflow gas into outflow gas products, where the system includes a gas delivery subsystem, a plasma reaction chamber, and a microwave subsystem, with the gas delivery subsystem in fluid communication with the plasma reaction chamber, so that the gas delivery subsystem directs the hydrocarbon-containing inflow gas into the plasma reaction chamber, and the microwave subsystem directs microwave energy into the plasma reaction chamber to energize the hydrocarbon-containing inflow gas, thereby forming a plasma in the plasma reaction chamber, which plasma effects the transformation of a hydrocarbon in the hydrocarbon-containing inflow gas into the outflow gas products, which comprise acetylene and hydrogen. The invention also includes methods for the use of this gas processing system.