FILM FORMING APPARATUS

An objective is to provide a technique for more properly adsorbing a substrate through an adsorption plate. To achieve the objective, a film formation apparatus includes: a chamber maintaining a vacuum therein; an absorption plate (15) installed in the chamber to adsorb a substrate; and a substrate support part (6) installed in the chamber, and having a plurality of substrate mounting parts (62, 63) supporting a substrate (100) form a lower side of the absorption plate (15). The film formation apparatus includes: a detecting means (801) detecting the height of each of the plurality of substrate mounting parts (62, 63) relative to the absorption plate (15) in a state where the inside of the chamber is maintained in a vacuum; and an adjustment means (811) adjusting a mounting position of a substrate (100) on each of the plurality of substrate mounting parts (62, 63) based on a detection result of a detection means (81), with respect to a state in which the inside of the chamber is maintained in a vacuum. [과제] 흡착판에 의한 기판의 흡착을 보다 적절하게 행하는 것을 가능하게 하는 기술을 제공한다. [해결 수단] 내부를 진공으로 유지하는 챔버와, 챔버의 내부에 설치되어, 기판을 흡착하는 흡착판(15)과, 챔버의 내부에 설치되어, 흡착판(15)의 하방에서 기판(100)을 지지하는 복수의 기판 재치부(62, 63)를 갖는 기판 지지부(6)를 구비하는 성막 장치에 있어서, 챔버의 내부가 진공으로 유지되어 있는 상태에 있어서의 흡착판(15)에 대한 복수의 기판 재치부(62, 63)의 각각의 높이를 검지하는 검지 수단(801)과, 챔버의 내부가 진공으로 유지되어 있는 상태에 있어서, 검지 수단(81)의 검지 결과에 기초하여 복수의 기판 재치부(62, 63)의 각각의 기판(100)의 재치위치를 조정하는 조정 수단(811)을 구비한다.