광학 시스템, 가열 장치, 및 광학 시스템의 광학 요소를 가열하기 위한 방법

본 발명은 광학 시스템, 가열 장치 및 광학 시스템의 광학 요소를 가열하기 위한 방법에 관한 것이다. 특히, 마이크로리소그래피 투영 노광 시스템에서의 광학 시스템은, 광학 활성 표면을 포함하고 30 nm 미만의 작동 파장용으로 설계된 적어도 하나의 광학 요소; 이 광학 요소를 가열하도록 의도되고 광학 활성 표면에 IR 방사선을 조사하기 위한 복수의 IR 방사기(101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404)를 갖고, IR 방사기는 서로 독립적으로 광학 요소의 상이한 가열 프로파일을 가변적으로 조절하기 위해 스위치 온 및 오프될 수 있는, 가열 장치; 및 IR 방사기에 의해 광학 활성 표면 상으로 지향되는 IR 방사선을 성형하기 위한 적어도 하나의 빔 성형 유닛(130, 231, 232, 233, 234, 430)을 포함한다. An optical system includes at least one optical element which has an optically effective surface and which is designed for an operating wavelength of less than 30 nm. The optical system also includes a heating arrangement for heating this optical element and comprising a plurality of IR emitters for irradiating the optically effective surface with IR radiation. The IR emitters are activatable and deactivatable independently of each other to variably set different heating profiles in the optical element. The optical system further includes at least one beam shaping unit for shaping the beam of the IR radiation steered onto the optically effective surface by the IR emitters. The optical system also includes a multi-fiber head comprising a multi-fiber connector for connecting optical fibers. IR radiation from a respective one of the IR emitters is suppliable by way of each of these optical fibers.