블록 공중합체, 수지 조성물, 신축성 도체, 전자 디바이스 및 점착 필름

본 발명에 관한 블록 공중합체는, 에틸렌성 불포화 단량체로부터 유래하는 구조 단위를 주체로 하고, 적어도 1이상의 메르캅토기를 갖는다. 또한, Mn이 5,000~500,000이고, 블록 구조가 A-B-A의 트리블록 구조, 또는 [A-B]qX의 별형 블록 구조이다. 단, q는 2 이상 6 이하의 정수이며, 중합체 블록(A)의 유리 전이 온도는 20℃이상이며, 상기 트리블록 구조의 경우의 중합체 블록(B)의 유리 전이 온도는 20℃미만이며, 상기 별형 블록 구조의 경우의 [중합체 블록(B)]qX의 유리 전이 온도가 20℃미만이다. 또한...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MATSUDA YUKIE, MIZUNO YUKI, OBA KAZUTOSHI, NAKAZATO ATSUSHI, GOTO ATSUSHI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE ADHESIVES BASIC ELECTRIC ELEMENTS CABLES CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS CONDUCTORS DYES ELECTRICITY INSULATORS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PAINTS POLISHES SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING ORDIELECTRIC PROPERTIES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명에 관한 블록 공중합체는, 에틸렌성 불포화 단량체로부터 유래하는 구조 단위를 주체로 하고, 적어도 1이상의 메르캅토기를 갖는다. 또한, Mn이 5,000~500,000이고, 블록 구조가 A-B-A의 트리블록 구조, 또는 [A-B]qX의 별형 블록 구조이다. 단, q는 2 이상 6 이하의 정수이며, 중합체 블록(A)의 유리 전이 온도는 20℃이상이며, 상기 트리블록 구조의 경우의 중합체 블록(B)의 유리 전이 온도는 20℃미만이며, 상기 별형 블록 구조의 경우의 [중합체 블록(B)]qX의 유리 전이 온도가 20℃미만이다. 또한, X는 개시제 잔기 또는/및 커플링제 잔기, 또는 그의 유도체이다. A block copolymer consists mainly of structural units each derived from an ethylenically unsaturated monomer and has at least one mercapto group. The block copolymer has an Mn of 5,000-500,000 and has a block structure, which is an A-B-A triblock structure or a star-shaped block structure of [A-B]qX. The q is an integer of 2-6. The polymer block (A) has a glass transition temperature of 20° C. or higher. The polymer block (B) of the triblock structure has a glass transition temperature lower than 20° C., and the [polymer block (B)]qX of the star-shaped block structure has a glass transition temperature lower than 20° C. The X is an initiator residue or/and a coupling-agent residue or is a derivative thereof.