진공 자외선으로부터 광학계를 보호하기 위한 시스템 및 방법

진공 자외선(VUV) 광 노출로 인한 광학 구성요소의 손상을 완화하기 위한 시스템이 개시된다. 시스템은 VUV를 생성하도록 구성된 광원 및 선택된 부분 압의 하나 이상의 기체 불소계 화합물을 포함하는 챔버를 포함한다. 시스템은 하나 이상의 광학 구성요소를 포함한다. 하나 이상의 광학 구성요소는 챔버 내에 위치하고 하나 이상의 기체 불소계 화합물에 노출된다. 광원에 의해 생성된 VUV 광은 챔버 내의 불소계 화합물을 1차 생성물로 해리하기에 충분한 에너지이다. A system for mitigating damage to optical...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LIKHANSKI SERGUEI, DELGADO GILDARDO, SAVEE JOHN, DERSTINE MATTHEW, BUTAEVA EVGENIIA
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	진공 자외선(VUV) 광 노출로 인한 광학 구성요소의 손상을 완화하기 위한 시스템이 개시된다. 시스템은 VUV를 생성하도록 구성된 광원 및 선택된 부분 압의 하나 이상의 기체 불소계 화합물을 포함하는 챔버를 포함한다. 시스템은 하나 이상의 광학 구성요소를 포함한다. 하나 이상의 광학 구성요소는 챔버 내에 위치하고 하나 이상의 기체 불소계 화합물에 노출된다. 광원에 의해 생성된 VUV 광은 챔버 내의 불소계 화합물을 1차 생성물로 해리하기에 충분한 에너지이다. A system for mitigating damage to optical elements caused by vacuum ultraviolet (VUV) light exposure is disclosed. The system includes a light source configured to generate VUV and a chamber containing one or more gaseous fluorine-based compounds of a selected partial pressure. The system includes one or more optical elements. The one or more optical elements are located within the chamber and are exposed to the one or more gaseous fluorine-based compounds. The VUV light generated by the light source is of sufficient energy to dissociate the fluorine-based compound within the chamber into a primary product.