알칼리-가용성 아크릴 수지를 포함하는 DNQ-타입 포토레지스트 조성물

본원에는 구조 (1), (2), (3), (4), (5), (6), 및 (7)을 갖는 것으로부터 선택된 반복 단위를 포함하는 아크릴 폴리머로서, 이러한 반복 단위는 상기 아크릴 폴리머에, 본원에 기술된 mole% 범위로 존재하는 아크릴 폴리머; 0.26 N 수성 TMAH 중에서 적어도 50 Å/초의 용해율을 갖는 노볼락 수지; 디아조나프토퀴논(DNQ) 광활성 화합물(PAC); 및 유기 스핀 캐스팅 용매를 포함하는 조성물, 및 수성 염기 중에서 현상 가능한 포지티브 포토레지스트로서 상기 조성물을 사용하는 공정이 기술된다. Descri...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CHEN CHUNWEI, LU PINGHUNG, LIU WEIHONG, TOUKHY MEDHAT A
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본원에는 구조 (1), (2), (3), (4), (5), (6), 및 (7)을 갖는 것으로부터 선택된 반복 단위를 포함하는 아크릴 폴리머로서, 이러한 반복 단위는 상기 아크릴 폴리머에, 본원에 기술된 mole% 범위로 존재하는 아크릴 폴리머; 0.26 N 수성 TMAH 중에서 적어도 50 Å/초의 용해율을 갖는 노볼락 수지; 디아조나프토퀴논(DNQ) 광활성 화합물(PAC); 및 유기 스핀 캐스팅 용매를 포함하는 조성물, 및 수성 염기 중에서 현상 가능한 포지티브 포토레지스트로서 상기 조성물을 사용하는 공정이 기술된다. Describe herein is a composition comprising: an acrylic polymer comprising repeat units selected from ones having structure (1), (2), (3), (4), (5), (6), and (7) wherein these repeat units are present in said acrylic polymer in the mole % ranges as described herein; a Novolak resin having a dissolution rate in 0.26 N aqueous TMAH of at least 50 Å/sec; a diazonaphthoquinone (DNQ) photoactive compound (PAC); and an organic spin casting solvent, and a process of using said composition as a positive photoresist developable in aqueous base.