DEFECT INSPECTION METHOD

The present invention provides a defect inspection method capable of setting a defect detection condition for reducing the ratio of a nuisance to a DOI while maximizing detection sensitivity of defects in a defect inspection device. According to an embodiment of the present invention, the defect inspection method uses a defect inspection device emitting illumination light to a first sample to acquire an image of the first sample and comparing the image of the first sample and a reference image to inspect defects and comprises: a process of generating the reference image; a process of acquiring the image of the first sample; a process of using an index based on results of defect inspection of a second sample different from the first sample to set a defect detection condition; and a process of distinguishing a nuisance based on the defect detection condition from results of comparing the reference image and the image of the first sample. 본 발명의 실시 형태는, 결함 검사 장치에 있어서, 결함의 검출 감도를 최대로 하면서, DOI에 대한 뉴슨스의 비율을 저감할 수 있는 결함 검출 조건을 설정할 수 있는 결함 검사 방법을 제공한다. 실시 형태에 따르면, 결함 검사 방법은, 제1 시료에 조명광을 조사하여 제1 시료의 화상을 취득하고, 참조 화상과 제1 시료의 화상을 비교하여 결함을 검사하는 결함 검사 장치를 사용한 결함 검사 방법이며, 참조 화상을 생성하는 공정과, 제1 시료의 화상을 취득하는 공정과, 제1 시료와는 다른 제2 시료의 결함 검사의 결과에 기초하는 지표를 사용하여 결함 검출 조건을 설정하는 공정과, 참조 화상과 제1 시료의 화상을 비교한 결과로부터, 결함 검출 조건에 기초하여 뉴슨스를 판별하는 공정을 구비한다.