적층 제조용 금속 분말
본 발명은, 중량으로 함량이 표현된 다음의 원소: 0.01% ≤ C ≤ 0.2%, 2.5% ≤ Ti ≤ 10%, (0.45 xTi) - 1.35% ≤ B ≤ (0.45 xTi) + 0.70%, S ≤ 0.03%, P ≤ 0.04%, N ≤ 0.05%, O ≤ 0.05% 를 포함하고, 선택적으로: Si ≤ 1.5%, Mn ≤ 3%, Al ≤ 1.5%, Ni ≤ 1%, Mo ≤ 1%, Cr ≤ 3%, Cu ≤ 1%, Nb ≤ 0.1%, V ≤ 0.5% 를 함유하고, TiB2 및 선택적으로 Fe2B 의 공정 석출물들을 포함하고, 잔부가...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 본 발명은, 중량으로 함량이 표현된 다음의 원소: 0.01% ≤ C ≤ 0.2%, 2.5% ≤ Ti ≤ 10%, (0.45 xTi) - 1.35% ≤ B ≤ (0.45 xTi) + 0.70%, S ≤ 0.03%, P ≤ 0.04%, N ≤ 0.05%, O ≤ 0.05% 를 포함하고, 선택적으로: Si ≤ 1.5%, Mn ≤ 3%, Al ≤ 1.5%, Ni ≤ 1%, Mo ≤ 1%, Cr ≤ 3%, Cu ≤ 1%, Nb ≤ 0.1%, V ≤ 0.5% 를 함유하고, TiB2 및 선택적으로 Fe2B 의 공정 석출물들을 포함하고, 잔부가 Fe 및 정교화로부터 기인한 불가피한 불순물들인, 조성을 갖고, 상기 금속 분말은 적어도 0.70 의 평균 진원도를 갖는다. 본 발명은 또한 아르곤 분무에 의해 그 제조 방법에 관한 것이다.
A metal powder for additive manufacturing having a composition including the following elements, expressed in content by weight: 0.01%≤C≤0.2%, 2.5%≤Ti≤10%, (0.45×Ti)−1.35%≤B≤(0.45×Ti)+0.70%, S≤0.03%, P≤0.04%, N≤0.05%, O≤0.05% and optionally containing: Si≤1.5%, Mn≤3%, Al≤1.5%, Ni≤1%, Mo≤1%, Cr≤3%, Cu≤1%, Nb≤0.1%, V≤0.5% and including eutectic precipitates of TiB2 and optionally of Fe2B, the balance being Fe and unavoidable impurities resulting from the elaboration, the metal powder having a mean roundness of at least 0.70. The invention also relates to its manufacturing method by argon atomization. |
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