CONTROLLING APPARATUS FOR CONTROLLIING OPERATION OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

In accordance with an embodiment of the present invention, provided are a control apparatus capable of enabling a substrate treatment apparatus to be normally operated even when a cluster tool controller (CTC) is stopped, and a substrate treatment facility including the same. In accordance with an embodiment of the present invention, the control apparatus controlling the operation of a substrate treatment apparatus comprises: a first CTC controlling each module of the substrate treatment apparatus; and a second CTC set to perform the same type of work as the first CTC by including the same software and hardware components as the first CTC. The second CTC is set to control each module of the substrate treatment apparatus in place of the first CTC when the first CTC is stopped. In accordance with an embodiment of the present invention, since the control apparatus is formed with the dualization of the first CTC and the second CTC, even when one CTC is stopped, the substrate treatment apparatus can be controlled through the other dualized CTC. Accordingly, the substrate treatment facility can be prevented from being stopped, and overall process efficiency can be increased. 본 발명의 실시예는 CTC(cluster tool controller)가 정지하는 경우에도 기판 처리 장치가 정상 동작할 수 있는 제어 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비를 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 동작을 제어하는 제어 장치는, 상기 기판 처리 장치의 각 모듈을 제어하는 제1 CTC와, 상기 제1 CTC와 동일한 소프트웨어 및 하드웨어 구성을 포함하여 상기 제1 CTC와 동일한 작업을 수행하도록 설정된 제2 CTC를 포함한다. 상기 제2 CTC는 상기 제1 CTC가 정지된 경우 상기 제1 CTC를 대신하여 상기 기판 처리 장치의 각 모듈을 제어하도록 설정된다. 본 발명의 실시예에 따르면, 제1 CTC와 제2 CTC를 이중화하여 제어 장치를 구성함으로써 하나의 CTC가 정지된 경우에도 이중화된 다른 CTC를 사용하여 기판 처리 장치를 제어함으로써 기판 처리 설비의 동작 정지를 방지할 수 있으며, 전반적인 공정 효율을 증대시킬 수 있다.