탄소 함유 구조물들을 증착하기 위한 장치 및 방법

본 발명은 하우징(1)의 하우징 내부 공간을 통해 이송된 기판(2)상에 탄소 함유 구조물들을 증착하기 위한 장치에 관한 것으로, 이때 상기 하우징 내부 공간은 제1 가장자리 구역(3)과 제2 가장자리 구역(4) 사이에 배치된 중앙 구역(5)을 포함하고, 이때 상기 기판(2)은 상기 제1 가장자리 구역(3)에 할당된 제1 개구(6)를 통해 상기 하우징(1) 내로 삽입되고, 이송 방향(F)으로 상기 중앙 구역(5)을 통과하여 상기 제2 가장자리 구역(4)에 할당된 제2 개구(7)를 통해 상기 하우징(1)으로부터 방출되며, 상기 장치는 상기 하우징(1) 내로 탄소 함유 공정 가스를 공급하기 위한 가스 유입구(8), 상기 공정 가스를 열 활성화하기 위한 가열 장치(9), 상기 하우징 내부 공간(1) 내로 공급된 가스를 배출시키기 위한, 펌프(10)에 연결 가능한 가스 배출구(16)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 가장자리 구역(3, 4) 내로 반응성 가스의 조절된 유입을 위한 수단들이 제공되어 있다. 또한, 가스 배출 개구(20)가 제공되어 있고, 상기 가스 배출 개구를 통해 산소와 반응하는 가스가 상기 장치 내로 공급될 수 있다. 상기 산소와 반응하는 가스는 가열 장치(9)에 의해 예열되어야 하며, 이때 상기 가열 장치(9)는 국부적으로 상기 중앙 구역(5) 내에 배치되어 있다. An apparatus deposits carbon-containing structures on a substrate conveyed through an interior space of a housing. The interior space has a central zone between a first peripheral zone and a second peripheral zone. The substrate enters the housing through a first opening of the housing, passes through the first peripheral zone, central zone, and second peripheral zone, and leaves the housing through a second opening of the housing. The second peripheral zone has a gas inlet with a gas outlet opening that feeds a carbon-containing process gas into the housing. The housing has a heating device partially disposed in the central region for thermally activating the process gas. A pump evacuates gas from the interior space through a gas outlet. Means are provided for the controlled entry of a reactive gas into the first and second peripheral zones.