PROCESS GAS SUCTION STRUCTURE AND EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS

온도 저하에 기인하여 처리 가스로부터 생성물이 발생하는 것을 방지하는 처리 가스 흡입 구조가 제공된다. 처리 가스 흡입 구조(100)는, 이중관 구조체(101)와, 이중관 구조체(101)를 가열하는 가열 장치(102)를 구비한다. 이중관 구조체(101)는, 처리 가스가 흐르는 처리 가스 유로부(105)와, 처리 가스 유로부(105)의 외측에 배치된 칸막이부(106)를 구비하고 있다. A process gas suction structure for preventing a generation of products from a proce...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SEKINE TAKAFUMI, MIYAZAKI KAZUTOMO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SEPARATION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	온도 저하에 기인하여 처리 가스로부터 생성물이 발생하는 것을 방지하는 처리 가스 흡입 구조가 제공된다. 처리 가스 흡입 구조(100)는, 이중관 구조체(101)와, 이중관 구조체(101)를 가열하는 가열 장치(102)를 구비한다. 이중관 구조체(101)는, 처리 가스가 흐르는 처리 가스 유로부(105)와, 처리 가스 유로부(105)의 외측에 배치된 칸막이부(106)를 구비하고 있다. A process gas suction structure for preventing a generation of products from a process gas due to a temperature drop is disclosed. The process gas suction structure includes a double tube structure, and a heating device configured to heat the double tube structure. The double tube structure includes a process-gas flow passage portion where the process gas flows, and a partition portion arranged outside of the process-gas flow passage portion.