멀티 스테이션 집적 회로 제조 챔버에서 RF (RADIO FREQUENCY) 전력 임밸런싱 (IMBALANCING)

멀티-스테이션 집적 회로 제조 챔버의 개별 프로세스 스테이션들로 전달된 무선 주파수 (RF) 전력은 제조 프로세스들이 발생하는 레이트들 그리고/또는 제조 프로세스 결과들이 서로 정렬되게 하도록 조정될 수도 있다. RF 분배 네트워크의 하나 이상의 반응 엘리먼트들을 조정함으로써 달성될 수도 있는, RF 전력의 이러한 조정은 개별 프로세스 스테이션 각각으로 전달된 전력의 임밸런싱을 발생시킬 수도 있다. Radio frequency power conveyed to individual process stations of a multi-station integrated circuit fabrication chamber may be adjusted so as to bring the rates at which fabrication processes occur, and/or fabrication process results, into alignment with one another. Such adjustment in radio frequency power, which may be accomplished via adjusting one or more reactive elements of a RF distribution network, may give rise to an imbalance in power delivered to each individual process station.