Filter unit and apparatus for processing substrate

본 발명의 일 관점에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 기판 처리 공간에 설치되며, 기판이 안착되는 기판 지지대와, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하기 위해 상기 기판 지지대에 대향되게 상기 공정 챔버에 설치된 가스 분사부와, 상기 공정 가스를 공급하도록 상기 가스 분사부에 연결된 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급부는, 소스 액체를 공급받아 기화시켜 소스 가스를 내보내는 기화기와, 상기 기화기로부터 상기 가스 분사부로 연결되는 가스 공급 라인과, 상기 기화기 후단의 상기 가스 공급...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	PARK DEOK GYU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 일 관점에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 기판 처리 공간에 설치되며, 기판이 안착되는 기판 지지대와, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하기 위해 상기 기판 지지대에 대향되게 상기 공정 챔버에 설치된 가스 분사부와, 상기 공정 가스를 공급하도록 상기 가스 분사부에 연결된 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급부는, 소스 액체를 공급받아 기화시켜 소스 가스를 내보내는 기화기와, 상기 기화기로부터 상기 가스 분사부로 연결되는 가스 공급 라인과, 상기 기화기 후단의 상기 가스 공급 라인에 설치되고, 상기 소스 가스를 예열하기 위한 가열 수단이 내장된 예열부 및 상기 예열부를 통과한 상기 소스 가스를 필터링하기 위해 상기 예열부 후단에 결합된 필터부를 포함하는 필터 유닛을 포함한다.