Apparatus for processing substrate

본 발명의 일 관점에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 기판 처리 공간에 설치되며, 기판이 안착되는 기판 지지대와, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하기 위해 상기 기판 지지대에 대향되게 상기 공정 챔버에 설치된 가스 분사부와, 상기 공정 가스를 공급하도록 상기 가스 분사부에 연결된 가스 공급부와, 상기 가스 공급부를 모니터링하고 제어하기 위한 제어부를 포함하고, 상기 가스 공급부는, 소스 액체를 공급받아 기화시켜 소스 가스를 내보내는 기화기와, 상기 기화기로부터 상기 가스 분사부로 연결되...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	AHN CHI WON, YANG SEUNG JAE, PARK YONG GYUN, SON BYOUNG GUN, NOH TAE SUB, CHOI MYONG HO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 일 관점에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 기판 처리 공간에 설치되며, 기판이 안착되는 기판 지지대와, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하기 위해 상기 기판 지지대에 대향되게 상기 공정 챔버에 설치된 가스 분사부와, 상기 공정 가스를 공급하도록 상기 가스 분사부에 연결된 가스 공급부와, 상기 가스 공급부를 모니터링하고 제어하기 위한 제어부를 포함하고, 상기 가스 공급부는, 소스 액체를 공급받아 기화시켜 소스 가스를 내보내는 기화기와, 상기 기화기로부터 상기 가스 분사부로 연결되는 가스 공급 라인과, 상기 기화기로부터 나오는 상기 소스 가스를 필터링하기 위해서, 상기 기화기 후단의 상기 가스 공급 라인에 설치된 필터와, 상기 필터를 우회하도록, 상기 필터 전후의 상기 가스 공급 라인에 연결된 바이패스 가스 라인과, 상기 바이패스 가스 라인 내 압력을 측정하기 위해 상기 바이패스 가스 라인에 연결된 압력 센서를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 압력 센서의 측정값으로부터 상기 기화기 또는 상기 필터의 이상 여부를 판단한다.