METROLOGY APPARATUS AND A METHOD OF DETERMINING A CHARACTERISTIC OF INTEREST

기판 상의 적어도 하나의 구조체에 관련된 관심 특성을 결정하기 위한 계측 장치 및 방법. 계측 장치는 센서 및 광학 시스템을 포함한다. 센서는 센서 상에 충돌하는 방사선의 특성을 검출하기 위한 것이다. 광학 시스템은 조명 경로 및 검출 경로를 포함한다. 광학 시스템은 적어도 하나의 구조체를 조명 경로를 통해 소스로부터 수광된 방사선으로 조명하도록 구성된다. 광학 시스템은 적어도 하나의 구조체에 의해 산란된 방사선을 수광하고 수광된 방사선을 검출 경로를 통해 센서로 전달하도록 구성된다. A computer program product causes a processor to execute a process of causing an optical system to illuminate at least one structure on a substrate that comprises first repetitive features at a first pitch in a first layer and second repetitive features at a second pitch in a second layer, the first repetitive features at least partially overlapping with the second repetitive features. The first pitch is different from the second pitch. The processor causes the optical system to receive radiation scattered by the at least one structure and transmit a portion of the received scattered radiation to a sensor arranged in an image plane of the optical system or in a plane conjugate with the image plane for detecting the received scattered radiation and configured to detect a characteristic of radiation impinging on the sensor. The processor then determines a characteristic of interest of the structure.